三星電子計劃新建半導體生產線 或生產7納米芯片

三星電子計劃新建半導體生產線 或生產7納米芯片

三星將投資60億美元到2019年完成的生產線上，并在2020年開始運營。三星公司將在開始運營時根據市場情況投入更多資金。

該公司表示，該工廠將安裝極紫外(EUV)光刻設備，這將有助于三星在超大規模集成方面保持技術領先地位。

與目前使用的ArF燈相比，EUV燈具有更短的波長，并且將允許繪制尺寸小于10納米的芯片所需的更精確和更詳細的電路。

三星的華城工廠與Giheung和Pyeongtaek的其他廠商一起，在韓國形成了“半導體集群”。它在德克薩斯州奧斯汀和中國西安也有工廠。

去年三星在半導體產品線上的投資超過260億美元，這是有史以來的最高紀錄，這是由于內存芯片需求的增長。

版權聲明：本文內容由網絡用戶投稿，版權歸原作者所有，本站不擁有其著作權，亦不承擔相應法律責任。如果您發現本站中有涉嫌抄襲或描述失實的內容，請聯系我們jiasou666@gmail.com 處理，核實后本網站將在24小時內刪除侵權內容。

版權聲明：本文內容由網絡用戶投稿，版權歸原作者所有，本站不擁有其著作權，亦不承擔相應法律責任。如果您發現本站中有涉嫌抄襲或描述失實的內容，請聯系我們jiasou666@gmail.com 處理，核實后本網站將在24小時內刪除侵權內容。